Dzienne archiwum

2 artykułów

Opublikowano

Wyniki konkursu o nagrodę im . Janusza Groszkowskiego w roku 2000

Polskie Towarzystwo Próżniowe i Stowarzyszenie Elektryków Polskich

logo_ptp  OGŁOSZENIE  WYNIKÓW  KONKURSU  logo_sep

O  NAGRODĘ

im . JANUSZA  GROSZKOWSKIEGO

na najlepsze  prace dyplomowe i doktorskie z dziedziny próżni

wykonane w roku 2000

Komisja Konkursowa  w składzie:

dr inż. Tadeusz Karwat Przedstawiciel Centralnej Komisji d/s Młodzieży SEP
doc. dr Jerzy Marks Instytut  Technologii Próżniowych   OBREP
prof. dr hab. Tomasz Stobiecki Katedra Elektroniki, Akademia Górniczo Hutnicza
dr inż. Piotr Szwemin Przewodniczący Komisji Konkursowej ;   IMiO, Politechnika Warszawska
prof. dr inż. Jerzy Zdanowski Instytut Techniki  Mikrosystemów, Politechnika Wrocławska

W kategorii rozpraw doktorskich:

dr Andrzej Pelc otrzymał Nagrodę

za rozprawę p.t. „

„Masowo-spektrometryczne badania mikroklasterów (CS2)n”

wykonaną w Instytucie Fizyki UMCS.

Promotor prof. dr hab. Leszek Michalak.

dr inż. Grzegorz Czempik otrzymał Wyróżnienie

za rozprawę p.t.

„Badania właściwości elektronowych i strukturalnych powierzchni i cienkich warstw dwutlenku cyny”

wykonaną w Instytucie Fizyki Politechniki Śląskiej

Promotor prof. dr hab. Jacek Szuber.

W kategorii prac magisterskich

nagród nie przyznano

Uroczyste wręczenie nagród odbyło się w dniu 14 maja 2001 r. w czasie Sesji Specjalnej
II Kongresu Polskiego Towarzystwa Próżniowego, w Instytucie Fizyki PAN  w Warszawie.

Przewodniczący Komisji Konkursowej
dr inż. Piotr Szwemin

Opublikowano

BIULETYN PTP nr 9 (1/2000)

Sprawozdanie z VI Ogólnopolskiego Seminarium Techniki Jonowe ’99

VI ogólnopolskie Seminarium „Techniki Jonowe – TJ’99” odbyło się w dniach od 3 do 5 marca 1999 r. tradycyjnie w ośrodku wczasowym Politechniki Wrocławskiej „Radość” w Szklarskiej Porębie. Po raz pierwszy obok Politechniki Wrocławskiej, a ściślej Instytutu Techniki Mikrosystemów organizatorami seminarium było: Polskie Towarzystwo Próżniowe i Uniwersytet Marii Curie Skłodowskiej w Lublinie. Instytut Fizyki UMCS i Instytut Techniki Mikrosystemów PWr uzgodniły, że będą corocznie organizowały spotkanie naukowe z zakresu technik jonowych przy czym naprzemiennie będą to Seminaria Technik Jonowych i Międzynarodowe Sympozja – implantacji jonowej i innych zastosowań jonów i elektronów. Pierwszą konferencję realizowaną w ramach tego porozumienia była organizowana w dniach od 16 do 19 czerwca 1998 w Kazimierzu Dolnym n/Wisła Konferencja „II International Symposium Ion Implantation and other Application of Ions and Electrons” Oba spotkania różnią się formułą , ale dzięki komplementarności ich formuł mogą być szczególnie użyteczne dla środowiska naukowego.
Podczas seminarium prezentowano przede wszystkim prace w postaci plakatowej, których było 28 oraz zostały wygłoszone 3 referaty przez: prof. F.F. Komarova – „Formation of buried high-resistant layers in silicon by two-step substoichiometric implantation of nitrogen ions”, prof. A Skołowską – „Płytka implantacja jonów w plazmowej inżynierii powierzchni” i dr hab. Ivo W. Rangelowa – „Plasma based 3D-structuring of silicon”. Wszystkie zaprezentowane doniesienia naukowe wraz z obszernym spisem projektów realizowanych w konkursach od XI do XV a finansowanych przez KBN na temat badał z zakresu „Technik Jonowych” (które przedstawił prof. J.Zdanowski) zostały opublikowane przez Instytut Techniki Mikrosystemów w wydawnictwie Politechniki Wrocławskiej.

Na podstawie Materiałów z VI TJ’99